Rheum.Art 2026

7. Mai 2026
Novartis Campus
Zur Anmeldung

Allgemeine Informationen

Wir freuen uns, Sie zur Rheum.Art 2026 einladen zu dürfen.

Es erwarten Sie spannende Vorträge zu verschiedenen dermatologischen Themen und die Möglichkeit, sich mit Ihren Kolleginnen und Kollegen auszutauschen. Die Fortbildung findet auf dem Novartis Campus in Basel statt.

Wir freuen uns auf Ihre Anmeldung und Sie persönlich an der Derm.Art 2026 begrüssen zu dürfen

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Programm:

Das Programm finden Sie hier.

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Fortbildungskreditpunkte:

XX SGDV Fortbildungspunkte wurden bewilligt.

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Anmeldung:

Bei Unklarheiten bezüglich der Anmeldung dürfen Sie Frau Alexandra Czako, alexandra.czako@novartis.com gerne kontaktieren.

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Anmeldung

Location

Novartis Campus

Fabrikstrasse 2, 4056 Basel, Switzerland
4056 Basel

Poster

Wir freuen uns, die Derm.Art auch dieses Jahr mit einer Poster-Ausstellung bereichern zu können.

Wir laden Sie deswegen ein, ein entsprechendes Poster-Abstract bis zum XXX 2026 an derm.art-posterpreis@usb.ch zu senden.

Sie werden dann zeitnahe von der wissenschaftlichen Leitung der Derm.Art informiert werden, ob Ihr Beitrag zur Poster-Ausstellung zugelassen wird. In Abhängigkeit der Anzahl präsentierter Poster, werden 1-3 Poster mit einem Preis ausgezeichnet.

Folgende Vorgaben für eine Poster-Präsentation sind zu beachten:

Mögliche Disziplinen:

Dermatologie, Allergologie, Machine learning mit Bezug zu diesen Themen.

Mögliche Posterkategorien:

  • Basic research

  • Clinical study

  • Case report

  • Case series

  • Bibliographic data

  • New Devices

  • Hypothesis & Theory

  • Pros & Cons/Controversies

  • DermArtology (ein dermatologisches oder allergologische Thema mit Kunstbezug)

Sprache:

ausschliesslich Englisch

Layout/Schrifttypen/Gliederung in Unterkapitel:

ohne Vorgaben

Format:

Hochformat 84,1 cm x 118,9 cm (B x H)

Ein Passfoto des/der Erstautor*in im oberen rechten Eck in der Grösse ca. 5 cm x 8 cm wird erwünscht.

Die Aufhängung der Poster ist am 07. Mai zwischen 08:30 Uhr und 09:15 Uhr möglich.